KRI离子源电源维修自动控制器GCF12602F01C-01

Kaufmαn Source Controller考夫曼KRI离子源自动控制器维修；离子源电源全系列型号修理。

KRI电源模组集成包有单独的电源模组衍生而来，因为 KRI 的电源模组是一种标准的模组，所以这些模组能够容易的集成到自动、多功能的功率包中。集成包是一个强有力的工具，能够简化等离子、离子和电子源的操作, 可以方便的实现功率控制的更优化.

当经常应用在如下的场合：

1. 工艺工程师想实现宽范围的工艺设计和优化，渴望确保参数的重复性，工艺可控

2. 生产经理想实现一个简单的命令操作，使工艺参数快速稳定

3. OEM 想实现高的集成度从而降低成本

4. 从事薄膜表面和结构的科研工作想实现灵活、很好的工艺控制

eH Plasmα Power Pack Controller---eH 等离子功率集成包

eH 等离子功率集成包用于驱动 end-Hall 离子源，它由电子发射模组、等离子放电模组和自动系统控制模组组成，结构紧凑、重量轻便。适用于材料工艺中要求稳定和很好的电子或离子源的功率控制。

eH Plasmα Power Pack 有自我保护功能，同时它是一个快速反应的功率源，可以在几秒钟内点火产生等离子，并在几秒钟内使离子束达到稳定。可以存储多个工艺程序、控制多个MFC确保对多种气体和气体混合物的准确控制。

使用者能容易的设置各种参数和模式、状态，面版上会显示出设定值、运行值、功能表存储资讯和工作状态资讯。

KRI RFICP Ion Power Pack Controller 射频感应耦合等离子功率集成包

RFICP Ion Power Pack Controller 用于驱动有栅离子源，由中和器模组、放电模组、偏压模组和加速模组组成，这些模组集成在一个 19” 的集成包中。

RFICP Ion Power Pack Controller 给离子源的射频线圈、离子光学和中和器提供电源，将射频功率耦合到辉光放电腔室，产生高密度的等离子体。配有自动阻抗适配器实现更优化，用户可以选择离子源和离子密度来满足工艺的要求。广泛用于沉积和刻蚀工艺中。

KRI离子源电源维修/考夫曼离子源自动控制器维修射频的额定功率 0.5 KW 或更高，中和器的额定功率 0.5 A 或更高。